Dirección a Japón donde el Instituto de Ciencia y Tecnología de Okinawa (IOST) está trabajando para simplificar los procesos de grabado EUV. En pocas palabras, es el tipo de grabado que se utiliza en la mayoría de chips de gama alta en la actualidad. Sin embargo, el proceso de grabado actual es complejo, requiere mantenimiento pesado y qué decir acerca del consumo…
¡Japón busca una manera de simplificar el grabado EUV!
En pocas palabras, el objetivo sería ofrecer máquinas simplificadas que permitan el grabado EUV. Actualmente, con las máquinas que utilizan este proceso, encontramos al menos seis espejos o más. El objetivo sería reducirlos a dos espejos. Esto simplificaría enormemente las herramientas de producción y reduciría el riesgo de posibles fallos.
Además, esta simplificación permitiría una reducción masiva del consumo. Con este nuevo método, sería posible obtener resultados similares a los disponibles actualmente consumiendo alrededor de 100 kW… En contraste con los 1 MW necesarios actualmente. Sí, una fábrica consume mucha energía, de hecho, estamos interesados en saber cuánto será la factura de TSMC, considerando que ha aumentado un 30% recientemente.
Finalmente, una máquina simplificada y menos consumidora de energía implica también una disminución de los costos operativos. Esta reducción de costos también debería reflejarse en el precio de los componentes, que ha aumentado considerablemente recientemente… Si el modelo japonés logra popularizarse.
